东京–(BUSINESS WIRE)–(美国商业资讯)– JEOL Ltd.（总裁兼首席执行官：Izumi Oi）宣布开发出全新的低角度离子铣削扫描电子显微镜HAXIS，并将于2026年10月5日开始销售。 HAXIS低角度离子铣削扫描电子显微镜 开发背景 随着先进半导体器件结构持续微缩并日趋复杂，使用纳米操纵器对微观电路进行接触与测量变得越来越困难。此外，探针接触可能会影响分析对象，因此需要新的失效分析方法。 JEOL长期致力于被动电压反差(PVC)检测技术的研究，并通过探测器与样品制备技术的进步，建立了一套稳定、高度可重复的PVC观察技术方法。 HAXIS正是JEOL融合上述技术打造的全新半导体失效分析平台。 即便面对先进半导体，HAXIS也能实现清晰且高度可重复的PVC观察。它在尽可能减小加工损伤与污染影响的同时，以可视化方式检出电学异常，从而高效定位缺陷位置并判定成因。采用惰性气体氩(Ar)可确保稳定的表面质量，并降低运行成本。 PVC观察的质量在很大程度上受去层(delayering)后样品表面状态的影响。HAXIS采用独一无二的、基于氩离子束的低角度离子铣削(LIM)