東京–(BUSINESS WIRE)–(美國商業資訊)– JEOL Ltd.（總裁兼執行長：Izumi Oi）宣布開發出全新的低角度離子研磨掃描電子顯微鏡HAXIS，並將於2026年10月5日開始銷售。 HAXIS低角度離子研磨掃描電子顯微鏡 研發背景 隨著先進半導體元件結構不斷縮小並日趨複雜，使用奈米操縱器對微尺度電路進行接觸與量測變得越來越困難。此外，探針接觸可能會影響分析對象，因此需要新的失效分析方法。 JEOL長期致力於被動電壓對比(PVC)偵測技術的研究，並透過探測器與樣品製備技術的進步，建立了一套穩定、高再現性的PVC觀察技術方法。 HAXIS正是JEOL融合上述技術打造的全新半導體失效分析平台。 即便面對先進半導體，HAXIS也能實現清晰、高再現性的PVC觀察。它在盡可能減小加工損傷與污染影響的同時，以視覺化方式檢出電學異常，從而高效定位缺陷位置並判定成因。採用惰性氣體氬氣(Ar)可確保穩定的表面品質，並降低運行成本。 PVC觀察的品質在很大程度上受層次去除(delayering)後樣品表面狀態的影響。HAXIS採用獨一無二的、以氬氣離子束為基礎的低角度離子研磨(L