日本栃木縣小山市–(BUSINESS WIRE)–(美國商業資訊)– 半導體微影光源製造商Gigaphoton Inc.（總部：栃木縣小山市；總裁兼執行長：Tatsuo Enami）宣布，已開發出用於ArF準分子雷射器的現場氖氣回收系統hTGM for ArF。 ArF微影在先進半導體的量產中扮演著關鍵角色。雷射的穩定運行以及稀有氣體資源的有效利用，是半導體製造商面臨的關鍵挑戰。 近年來，受地緣政治風險和全球供應鏈中斷的影響，氖氣的供需平衡波動加劇。Gigaphoton此前已透過氣體減量技術和用於KrF準分子雷射器的氣體回收系統，支援客戶維持穩定生產。此次新發表的hTGM for ArF將這一工作擴大至ArF微影領域。 hTGM for ArF可在半導體工廠內部蒐集並回收使用過的氣體。單台hTGM for ArF裝置每年最多可減少470千公升的氣體消耗，並可連結最多5台ArF雷射器。此外，其在硬體上與hTGM for KrF具有通用性，便於快速擴產。 Gigaphoton總裁兼執行長Tatsuo Enami表示：「透過將降低準分子雷射器氣體消耗的技術與現場氣體回收系統相結合，Gi