日本栃木县小山市–(BUSINESS WIRE)–(美国商业资讯)– 半导体光刻光源制造商Gigaphoton Inc.（总部：栃木县小山市；总裁兼首席执行官：Tatsuo Enami）宣布，已开发出用于ArF准分子激光器的现场氖气回收系统hTGM for ArF。 ArF光刻在先进半导体的量产中扮演着关键角色。激光的稳定运行以及稀有气体资源的有效利用，是半导体制造商面临的关键挑战。 近年来，受地缘政治风险和全球供应链中断的影响，氖气的供需平衡日益波动。Gigaphoton此前已通过气体减量技术和用于KrF准分子激光器的气体回收系统，支持客户维持稳定生产。此次新发布的hTGM for ArF将这一工作拓展至ArF光刻领域。 hTGM for ArF可在半导体工厂内部收集并回收使用过的气体。单台hTGM for ArF设备每年最多可减少470千升的气体消耗，并可连接最多5台ArF激光器。此外，其在硬件上与hTGM for KrF具有通用性，因此有助于实现高效的生产爬坡。 Gigaphoton总裁兼首席执行官Tatsuo Enami表示：“通过将降低准分子激光器气体消耗的技术与现场气