栃木県小山市–(BUSINESS WIRE)–（ビジネスワイヤ） — 半導体リソグラフィ用光源メーカーのギガフォトン株式会社（本社：栃木県小山市、代表取締役社長：榎波龍雄）は、2026年9月にArFエキシマレーザ向けオンサイトガスリサイクルシステム「hTGM for ArF」を開発したと発表しました。 ArFリソグラフィは、先端半導体の量産工程において現在も重要な役割を担っており、安定したレーザ運用と希ガス資源の有効活用は、半導体メーカーにとって重要な課題となっています。 近年、世界的な地政学的リスクや供給網の混乱により、ネオンガスの需給バランスは大きく変動してきました。ギガフォトンはこれまで、ガス削減技術やKrFエキシマレーザ向けガスリサイクルシステムを通じて、お客様の安定生産を支援してきました。今回発表するhTGM for ArFは、その取り組みをArFリソグラフィ領域へ拡大するものです。 hTGM for ArFは、工場内で使用済みガスを回収・再利用し、ArFレーザにおいて、50%のネオンガスリサイクル率を実現します。年間470kLの処理能力を有し、最大5台のArFエキシ